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丹东百特 · BT-EBPVD-1000
BT-EBPVD-1000是一款面向工业级应用的大型电子束沉积系统，配备双电子枪和10英寸旋转样品台，真空度可达2×10⁻⁶ Pa。系统集成全自动工艺配方管理和远程监控功能，支持多层膜连续沉积，膜厚均匀性优于±2%。适用于光学镀膜、装饰镀膜及半导体封装等场景。
高产能；智能化；高精度；全球化服务
该设备支持通过手机APP实时查看工艺参数；曾为某国际知名眼镜品牌提供镜片镀膜生产线
北仪创新 · BY-EBPVD-600
BY-EBPVD-600是一款紧凑型电子束沉积系统，专为实验室和小批量生产设计。配备单电子枪和4英寸样品台，真空度可达8×10⁻⁶ Pa，支持手动与半自动操作模式。系统集成石英晶体膜厚监控，可沉积金属、氧化物及氮化物薄膜，适用于光学薄膜、传感器镀膜及材料科学研究。
易用性；低门槛；高可靠性；定制化
该设备体积仅占标准实验台的一半，适合空间有限的实验室；曾用于某高校的纳米光学器件课程实验
沈阳科仪 · SKY-EBPVD-800
SKY-EBPVD-800采用模块化设计，支持电子束与电阻蒸发复合工艺。配备全自动PLC控制系统和在线膜厚监测仪，可实时调控沉积参数。极限真空度达3×10⁻⁶ Pa，最大基片尺寸为8英寸，适用于LED芯片电极、太阳能电池背电极及精密光学滤光片的批量制备。
高自动化；工艺灵活性；批量稳定性；本地化服务
该设备可兼容电子束与电阻蒸发两种工艺，无需更换腔体；曾为国内某知名LED企业提供年产百万片的镀膜解决方案
中科科仪 · EBPVD-500
EBPVD-500是一款面向科研与工业级应用的电子束物理气相沉积系统，采用高能电子束轰击靶材实现薄膜沉积。设备配备6工位旋转样品台和双电子枪设计，支持金属、氧化物及多层膜制备。真空度可达5×10⁻⁶ Pa，膜厚均匀性优于±3%，适用于光学薄膜、超导薄膜及功能涂层研发。
高稳定性；国产自主；高性价比；定制化服务
该设备曾用于某型号卫星光学镜片的镀膜任务；电子枪采用独创的偏转聚焦技术，寿命比传统设计延长30%