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最近更新：2020-01-01
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苏州晶瑞化学股份有限公司 · JR-REM-400P
JR-REM-400P是一款高纯型电子束光刻胶去胶液，采用DMSO（二甲基亚砜）与特种胺类复配体系，金属离子含量低于0.1ppb。该产品专为先进制程（7nm及以下）设计，对高分辨率电子束光刻胶（如HSQ、ZEP520A）去除效率极高，且对超薄栅氧化层无损伤。适用于12英寸晶圆生产线，是高端Fab厂的首选。
极致纯度；先进制程；零损伤；国际对标
该产品配方中使用了专利的金属离子螯合技术，可将金属离子降至0.01ppb级别。；曾用于某量子计算芯片的制造，去胶后器件性能提升10%。
北京华大半导体有限公司 · HD-REM-300
HD-REM-300是一款通用型电子束光刻胶去胶液，基于环己酮和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）混合溶剂。该产品对正性电子束光刻胶（PMMA、ZEP）和部分负胶（SU-8、ma-N）均有良好去除效果，去胶温度50-70℃，适用于实验室小批量及中试线。价格亲民，是高校和初创企业的热门选择。
经济实惠；通用性强；供应稳定；操作简便
该产品在拼多多上也有销售，是少数在电商平台热销的电子级化学品。；曾用于某大学生微纳器件竞赛，帮助团队获得一等奖。
上海新阳半导体材料股份有限公司 · SY-REM-200E
SY-REM-200E是一款环保型电子束光刻胶去胶液，采用低挥发性有机溶剂配方，不含NMP和苯类有害物质。该产品对电子束光刻胶（如PMMA、ZEP、CSAR）具有优异的溶解能力，去胶温度低（40-50℃），对敏感基材（如石墨烯、二维材料）损伤极小。特别适合科研院所和先进封装产线，符合RoHS和REACH环保标准。
绿色环保；基材友好；低温工艺；高洁净度
该产品配方灵感来源于生物基溶剂，可生物降解。；曾用于某航天级MEMS器件制造，通过高可靠性测试。
江阴江化微电子材料股份有限公司 · JH-REM-100
JH-REM-100是一款基于N-甲基吡咯烷酮（NMP）的高效电子束光刻胶去胶液，专为半导体光刻工艺设计。该产品能快速溶解并去除电子束光刻胶（如PMMA、ZEP等），对基材（硅片、氮化硅、金属层）腐蚀性极低，金属离子含量控制在ppb级，适用于4/6/8英寸晶圆生产线，尤其适合高精度微纳加工中的去胶步骤。
高纯度；低腐蚀性；快速去胶；国产自主
该产品曾用于某国产光刻机配套工艺验证，去胶良率提升至99.5%。；NMP基去胶液可回收再利用，降低生产成本。