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Crestec · CABL-9000C
Crestec CABL-9000C是一款紧凑型电子束光刻系统，采用30kV加速电压与肖特基场发射源，支持6英寸晶圆直写。系统最小线宽15nm，配备自动束斑优化与图形拼接功能，适合纳米压印模板、衍射光学元件及生物芯片原型制备。其占地面积仅2.5平方米，无需特殊地基，适合空间有限的实验室。
高性价比；紧凑设计；低维护成本；快速原型
CABL-9000C的占地面积仅相当于一张标准办公桌，可轻松放入普通实验室。；该设备曾用于制造中国首款纳米级微流控芯片，用于快速病毒检测。
Vistec · EBPG5000+
Vistec EBPG5000+是一款高速电子束光刻系统，采用100kV加速电压与可变矩形束斑技术，支持最大300mm晶圆。系统具备多级真空锁与自动对准功能，最小线宽6nm，写入速度较传统圆形束提升3倍以上。适用于纳米压印母版、高频滤波器及超导量子比特制备。其模块化设计允许用户按需升级束斑形状与检测模块。
高速写入；大面积兼容；模块化升级；高良率
EBPG5000+的矩形束斑技术最初源自徕卡显微镜的光学变焦原理。；该设备曾用于制造全球最大面积的纳米光子超表面，尺寸达4英寸晶圆。
JEOL · JBX-6300FS
JEOL JBX-6300FS是一款高精度电子束光刻系统，采用50kV加速电压与热场发射电子源，支持8英寸晶圆直写。系统具备自动束斑校正与实时聚焦补偿功能，最小线宽可达8nm。适用于纳米压印模板、光子掩模版及MEMS器件原型开发。其图形发生器支持GDSII格式直接导入，操作界面友好，适合多用户共享实验室。
高性价比；易用性；稳定束流；广泛工艺兼容性
JBX-6300FS的电子束斑直径可调至仅相当于人类红细胞直径的千分之一。；该设备曾用于制造中国首款自主研发的纳米级生物传感器芯片。
Raith · EBPG5200
Raith EBPG5200是一款高分辨率电子束光刻系统，专为先进纳米器件研发与小批量生产设计。系统采用100kV加速电压，支持5nm以下线宽直写，配备激光干涉台实现高精度拼接与套刻。适用于量子点、纳米光子晶体、高频电子器件等前沿研究。其自动化流程与多用户管理功能显著提升实验室效率。
亚纳米级对准精度；高工艺重复性；支持多用户自动化；长期稳定性
EBPG5200的激光干涉台定位精度相当于从北京到上海的距离误差不超过一根头发丝的直径。；该设备曾用于制造全球最小的纳米光子晶体谐振腔，尺寸仅相当于病毒大小。